itof
반도체/디스플레이 실시간 공정진단 시스템(TOF)Semiconductor/display real-time process monitoring system(TOF)
TOF는 time-of-Flight 라는 말 그대로 이온화된 물질이 날아가는 시간을 측정하는 것으로 질량을 분석하는 기술입니다. 지정된 특정성분만 측정하는 QMS나 FTIR과 달리 실시간으로 가스내에 존재하는 모든 성분의 정보를 짧은 측정 주기로 획득할 수 있으며, QMS보다 넓은 측정 범위 (0~600amu)의 측정이 가능합니다.
TOF(Time-of-Flight) is a technology that analyzes mass by measuring the time of flight of ionized substances. Unlike QMS or FTIR, which measure only designated specific components, information on all components in a sample can be obtained in real time, and is characterized by a wider measurement range (0 to 600 amu) than QMS.
이엘의 itof는 기존 RGA(잔류가스분석, Residual Gas Analysis)용 QMS보다 향상된 성능을 기반으로 반도체/디스플레이 제조공정에서 사용되는 가스의 성분과 양을 측정하여 공정상태의 실시간 모니터링 시스템으로 사용되고 있습니다.
EL's itof is used as a real-time monitoring system for semiconductor/display manufacturing processes based on improved performance compared to the existing QMS for RGA (Residual Gas Analysis).
| 구분 | 규격 |
|---|---|
| Model name / Measuring principle | itof / TOF MS |
| Ion source | Egun(Tungsten Filament) |
| Electron impact Energy | 70 eV(Adjustable) |
| Detector | Triple MCP(microchannel plate), MCP Diameter - 0.5 inch |
| Drift tube length | 230 mm |
| Mass range | 0.7 ~ 500 amu |
| Resolution | 100 amu |
| Mass scan speed (0.7 ~ 500 amu) | 2000 scan/sec |
| Maximum ion source operating pressure | > 1*10-5 torr |
| Dimension / Weight | 500×400×500 (W×D×H, mm) / 30 kg |
| OS | windows 10 |
| Output data | .csv file |
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